要達到獲得光亮的電解拋光表面，必須使用表面上微觀粗糙度降低到低于光的波長，通常認為應當形成比中間黏液層更厚，更致密，更易鈍化的緊密層，它可以是趨于飽和的高粘度黏液層，也可以是固體層。

這樣，金屬的溶液是在緊密膜內進行的，緊密膜的形成速度應當超過該膜溶解速度，這是存在緊密膜的前提。

在幾乎無對流的特殊條件下，jacquet層變的十分厚，也更加緊密，甚至可以出現光的干涉色。在這樣厚的黏液膜或固體膜內，陽極電流密度變的非常小，它可以使微觀的凸出部溶解，而微觀的凹入部不再溶解，這就達到了微觀整平目的。

由于類似的狀態在金屬表面的多處均存在，使表面的各個部分均發生微觀整平，這種表面的無序微觀整平的最終結果，就使金屬表面變的光亮。所以電拋光實際上是陽極表面的宏觀整平（一次電流分布）和微觀整平（二次電流分布）作用的結果。

只有宏觀整平，陽極表面只能變的平滑，但不能產生光澤。

有些電解液可以同時具有宏觀整平和微觀整平的作用，早拋光的這一階段，形成黏液層和黏液膜還不高，此時只起宏觀整平作用。

當宏觀整平進行到一定程度后，形成的黏液膜更黏，更貼近金屬表面，因此也可以起微觀整平的作用，從而達到真正拋光的效果。